特許
J-GLOBAL ID:200903092849335356

真空蒸着槽の自動洗浄方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-081199
公開番号(公開出願番号):特開平6-272027
出願日: 1993年03月17日
公開日(公表日): 1994年09月27日
要約:
【要約】【目的】 磁気記録媒体となる磁性材料を蒸着する真空蒸着槽の洗浄を効率よく行うとともに、製品歩留りの向上と磁性材料の再利用とを図り得る真空蒸着槽の洗浄方法及び装置を提供する。【構成】 真空蒸着槽1内において基体3に磁性材料6を蒸着する際、真空蒸着槽1を構成する部材9、10に不所望に付着する磁性材料6から蒸発せしめられた蒸発原子の残滓を洗浄するため、基体3への蒸着工程が終了した後に部材9、10を分離して洗浄位置に搬送し、洗浄位置において洗浄方向や水圧等を自在に制御し得るように構成した洗浄ロボット21により洗浄した後、次の蒸着工程に備えて待機位置に待機させるとともに、洗浄水をタンクに収容して再利用を図るようにした。
請求項(抜粋):
磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽で蒸着物が付着した被洗浄部材を、高圧噴射する洗浄液により洗浄することを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄方法。
IPC (2件):
C23C 14/24 ,  G11B 5/85
引用特許:
審査官引用 (14件)
  • 特開昭59-228932
  • 特開昭64-021020
  • 特開昭62-065733
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