排ガス浄化装置及び排ガス浄化用触媒

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大川宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-116887
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300262
出願日： 2000年04月18日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：

【要約】【課題】含まれるHC量がCO量より少ない排ガス中であっても効率よく水素を生成し、耐硫黄被毒性をさらに向上させる。【解決手段】塩基性酸化物担体にPtを担持した水素生成触媒1を排ガス流路の上流側に、多孔質酸化物担体に貴金属とNOx 吸蔵材を担持したNOx 吸蔵還元型触媒2を水素生成触媒1の下流側に配置した。塩基性酸化物は硫酸塩との結合力が強いため、塩基性酸化物担体上ではSがPtへ移行しにくくなり、その結果PtS の生成が抑制される。これにより硫黄被毒耐久試験後もPtの活性が高く、水素の発生により硫黄被毒がいっそう防止される。

請求項（抜粋）：

塩基性酸化物担体に白金を担持した水素生成触媒を排ガス流路の上流側に配置し、多孔質酸化物担体に貴金属とNOx 吸蔵材を担持したNOx 吸蔵還元型触媒を該水素生成触媒の下流側に配置してなることを特徴とする排ガス浄化装置。

IPC (8件)：

B01D 53/94 , B01D 53/86 ZAB , B01J 23/42 , B01J 27/232 , F01N 3/08 , F01N 3/10 , F01N 3/28 301 , F01N 3/28

FI (10件)：

B01J 23/42 A , B01J 27/232 A , F01N 3/08 A , F01N 3/10 A , F01N 3/28 301 C , F01N 3/28 301 G , B01D 53/36 101 A , B01D 53/36 ZAB , B01D 53/36 102 A , B01D 53/36 102 B

Fターム (92件)：

3G091AA12 , 3G091AA17 , 3G091AB01 , 3G091AB06 , 3G091BA11 , 3G091BA14 , 3G091BA39 , 3G091CA19 , 3G091CB02 , 3G091DA01 , 3G091DA02 , 3G091DA04 , 3G091FB10 , 3G091FB11 , 3G091FB12 , 3G091GA06 , 3G091GA18 , 3G091GA19 , 3G091GA20 , 3G091GB01X , 3G091GB01Y , 3G091GB02X , 3G091GB02Y , 3G091GB03Y , 3G091GB04Y , 3G091GB05W , 3G091GB06W , 3G091GB07W , 3G091GB09X , 3G091GB09Y , 3G091GB10X , 3G091GB10Y , 3G091GB17X , 3G091HA08 , 3G091HA18 , 3G091HA47 , 4D048AA06 , 4D048AA13 , 4D048AB02 , 4D048AB06 , 4D048BA01X , 4D048BA03X , 4D048BA08X , 4D048BA10X , 4D048BA14Y , 4D048BA15X , 4D048BA18Y , 4D048BA19Y , 4D048BA30X , 4D048BA33X , 4D048BA41X , 4D048BA42X , 4D048BA45X , 4D048BB02 , 4D048BB16 , 4D048CC32 , 4D048CC46 , 4D048EA04 , 4G069AA03 , 4G069BA01A , 4G069BA01B , 4G069BA05A , 4G069BA05B , 4G069BA06A , 4G069BA06B , 4G069BA13B , 4G069BA20A , 4G069BA20B , 4G069BA47A , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BB16A , 4G069BB16B , 4G069BC01A , 4G069BC08A , 4G069BC13A , 4G069BC13B , 4G069BC38A , 4G069BC71A , 4G069BC71B , 4G069BC75A , 4G069BC75B , 4G069CA02 , 4G069CA03 , 4G069CA08 , 4G069CA13 , 4G069EA19 , 4G069EB14Y , 4G069EC27 , 4G069EC28 , 4G069EC29 , 4G069EE09

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