特許
J-GLOBAL ID：200903092897190750
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-027202
公開番号（公開出願番号）：特開2004-240044
出願日： 2003年02月04日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、露光後加熱温度依存性、エッチング表面荒れが低減され、さらには疎密依存性が小さく、サイドローブマージンに優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)すべての繰り返し単位がアクリルエステル単位であり、脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位(A1)及び水酸基を有するアダマンタン構造を有する繰り返し単位(A2)を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)すべての繰り返し単位がアクリルエステル単位であり、脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位(A1)及び下記一般式(A2)で表される繰り返し単位(A2)を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039
, C08F220/26
, H01L21/027
G03F7/039 601
, C08F220/26
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CB60
, 2H025CC03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC53P
, 4J100JA38
