特許
J-GLOBAL ID：200903092900247084
プラズマ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-175914
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343196
出願日： 1992年06月11日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】電子ビーム励起プラズマをシート状に形成すると共に、プラズマ密度の均一化及び処理精度の向上を図る。【構成】電子加速手段22の加速電極22a及び環状コイル22bによってプラズマから引込まれる電子が照射される処理室3内に、電子を偏平状に圧縮し移送する磁場形成手段25を配設すると共に、磁場形成手段25と対向する処理室終端側に磁場集束手段26を配設する。磁場形成手段25を、電子加速手段22により引込まれた電子を偏平状に圧縮する一対の永久磁石25a,25bと、偏平された電子を偏平面に沿って移送するソレノイドコイル25cとで構成する。これにより、反応ガスへの電子の照射によって励起されるシート状プラズマの面積を大きくすることができると共に、シート状プラズマのプラズマ密度の均一化及び処理精度の向上を図ることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマから電子を引出し加速して照射することにより、処理室内に供給される所定の反応ガスを励起してプラズマ化し、このプラズマにより被処理体の処理を行うプラズマ装置において、上記処理室内に電子を引込む電子加速手段と、この電子加速手段により引込まれた電子を偏平状に圧縮し移送する磁場形成手段と、この磁場形成手段と対向する上記処理室終端側に配設される磁場集束手段とを具備することを特徴とするプラズマ装置。
IPC (3件)：
H05H 1/48
, H01J 37/32
, H01L 21/302
