電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032878
公開番号（公開出願番号）：特開2002-236364
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】基板面での塗布均一性に優れ、現像時の欠陥発生を軽減した電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】ベンゼン環原子団を3〜10個含むフェノール誘導体であり、分子量2000以下、ヒドロキシメチル基及びアルコキシメチル基を分子内にそれぞれ1個以上有し、それらを少なくともいずれかのベンゼン環原子団に結合している、酸の作用により架橋反応を示す架橋剤、及び下記a群の溶剤のうち少なくとも1種と、下記b群及び下記c群の溶剤のうち少なくとも1種を含有する混合溶剤を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。a群:プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートb群:プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル及びアルコキシプロピオン酸アルキルc群:γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート

請求項（抜粋）：

少なくとも下記(A)、(B)、(C1)、(D)、及び(E)を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。(A)アルカリ可溶性樹脂(B)酸発生剤(C1)分子内にベンゼン環原子団を3〜10個含むフェノール誘導体であり、分子量2000以下、ヒドロキシメチル基及びアルコキシメチル基を分子内にそれぞれ1個以上有し、それらを少なくともいずれかのベンゼン環原子団に結合している、酸の作用により架橋反応を示す架橋剤(D)有機塩基性化合物(E)下記a群の溶剤のうち少なくとも1種と、下記b群の溶剤及び下記c群の溶剤のうち少なくとも1種を含有する混合溶剤a群:プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートb群:プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル及びアルコキシプロピオン酸アルキルc群:γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 , C07C 25/18 , C07C381/12 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 601 , C07C 25/18 , C07C381/12 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Fターム (19件)：

2H025AA04 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H006EA22

前のページに戻る