特許
J-GLOBAL ID：200903092935531958
パージガスからのアンモニアの回収
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-068520
公開番号（公開出願番号）：特開2003-300724
出願日： 2003年03月13日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：
【要約】【課題】 アンモニア合成プロセスの提供。【解決手段】 本発明は、反応せずそして排出されない場合は蓄積されるであろうガスを含むアンモニア合成ループに関する。本発明によって、パージガス中のアンモニアは、全合成ループ圧の下に吸着剤により回収される。吸着剤は、水素及び窒素を含むガスを、合成ループ圧と同じ高められた圧力の下にその吸着剤に通すことによってアンモニアが再び除去され得るようなものが選択される。これによって、合成ガスコンプレッサからの合成ループに導入される前の新鮮な合成ガスによって吸着剤を再生することが可能になる。従って、この再生操作は、最小のエネルギー消費及び装置しか必要としない。
請求項（抜粋）：
アンモニア、水素、窒素、アルゴン、ヘリウム及びメタンを含む、アンモニア合成ループから生ずるパージガス流からアンモニアを除去し次いで回収する方法であって、a) アンモニア選択的吸着剤を含む第一のアンモニアアブソーバー中にパージガス流を導入する段階、b) 合成ループの圧力と同じ圧力の下に、上記パージガス中のアンモニアを上記アンモニア吸着剤に吸着させる段階、c) 上記第一のアンモニアアブソーバーからアンモニア不含パージガスを抜出する段階、d) 水素及び窒素を含み並びにこれらに加えてアルゴン、ヘリウム及びメタンのうちの少なくとも一つを痕跡量で含む補充ガス流を、アンモニアで飽和されたアンモニア選択的吸着剤を含む第二のアンモニアアブソーバー中に導入する段階、e) 合成ループの圧力と同じ圧力の下に、アンモニアで飽和された上記アンモニア吸着剤から上記補充ガスでアンモニアを除去する段階、f) 上記第二のアンモニアアブソーバーからアンモニア含有流出流を抜出し、そしてこの流出流を、補充ガス添加箇所でアンモニア合成ループに導入する段階、及びg) 所定時間後、パージガスを段階(a) 〜(c) として上記第二のアンモニアアブソーバーに導入し、またこれと同時に、アンモニア不含補充ガスを、段階(d) 〜(f) として第一のアンモニアアブソーバーに導入する段階、を含む、上記方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01C 1/12 A
, B01D 53/04 G
4D012CA20
, 4D012CB16
, 4D012CD10
, 4D012CE03
, 4D012CF03
, 4D012CF05
, 4D012CG01
, 4D012CG03
, 4D012CH10
