特許
J-GLOBAL ID：200903092938585625
パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065053
公開番号（公開出願番号）：特開平10-260021
出願日： 1997年03月18日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】特定のアライメントマークを必要とせず、さらに複雑で大規模な電気制御系を必要とすることなく、しかも位置オフセット、伸縮量、回転量を補正しながらパターンを検査できるパターンの検査装置を提供する。【解決手段】試料1上のパターンをラインセンサ5で読み取って得られたセンサデータと参照データ発生装置13から出力された参照データとを比較装置6で不一致の個数を用いる比較法で比較し、この比較結果に基づいてXYステージ2の位置情報に補正を加えることによって参照パターン領域をセンサパターン領域に一致させるように位置決めしている。
請求項（抜粋）：
試料上に形成されているパターンを検査するパターン検査装置において、前記試料をステージで保持し、このステージをX軸方向には連続移動させるとともに上記X軸とは直交するY軸方向にはステップ移動させる第1の手段と、前記試料上のパターンをラインセンサで読み取ってセンサデータを出力する第2の手段と、前記センサデータの出力に同期して前記ステージのX軸方向位置とY軸方向位置を求める第3の手段と、前記第3の手段で求められた前記ステージのX軸方向位置に第1のバイアス値を加算したものに対し、X軸方向に一定間隔毎に第2のバイアス値を累積して修正したX軸方向修正ステージ位置を求める第4の手段と、前記第3の手段で求められた前記ステージのY軸方向位置に第3のバイアス値を加算したものに対し、X軸方向に一定間隔毎に第4のバイアス値を累積して修正したY軸方向修正ステージ位置を求める第5の手段と、前記パターンの設計データを入力する第6の手段と、この第6の手段によって入力された設計データと前記第4および第5の手段によって求められた修正ステージ位置とに基づいて参照データを発生する第7の手段と、この第7の手段で得られた参照データと前記第2の手段で得られたセンサデータとを比較して不一致を検出する第8の手段と、この第8の手段で得られた不一致データに基づいて前記第1乃至第4のバイアス値を調節して得られた結果を比較解析してX軸方向およびY軸方向の位置オフセットと倍率補正値を求める第9の手段とを具備してなることを特徴とするパターン検査装置。
IPC (4件)：
G01B 11/24
, G01B 11/00
, G01N 21/88
, H01L 21/66
G01B 11/24 F
, G01B 11/00 H
, G01N 21/88 E
, H01L 21/66 J
