特許
J-GLOBAL ID：200903092942904352

液晶装置およびその製造方法

発明者：
曽根原 富雄

曽根原 富雄 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邊 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-070126
公開番号（公開出願番号）：特開2002-268052
出願日： 2001年03月13日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：
【要約】【課題】 従来より簡単なプロセスによって製造が可能な体積ホログラム構造を有する液晶装置とその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の液晶装置を製造する際には、焦点距離が異なる複数のマイクロレンズ26A,26B,26Cからなるマイクロレンズアレイ25を、ポリマー前駆体と液晶との混合液を挟持したセルの外面に配置した状態で光を照射して2光束干渉露光を行い、混合液中のポリマー前駆体を重合させる。これにより、ポリマー部5と液晶部4が周期的に繰り返し形成された干渉縞構造をなし、ポリマー部5の周期のピッチ、角度が異なる複数の体積ホログラム構造部6A,6B,6Cを1回の全面露光で同時に形成することができる。
請求項（抜粋）：
少なくとも一方の基板が光透過性を有する一対の基板間に、ポリマーと液晶分子とからなり、前記ポリマーがリッチなポリマー部と前記液晶分子がリッチな液晶部とが周期的に繰り返し形成された干渉縞構造をなし、前記ポリマー部の周期のピッチ、角度の少なくとも一方が異なる複数の体積ホログラム構造部が形成されるとともに、前記複数の体積ホログラム部の間には液晶がリッチな液晶部が介在し、前記各体積ホログラム構造部に対して電界を印加する電界印加手段が備えられたことを特徴とする液晶装置。
IPC (7件)：
G02F 1/1334 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G02F 1/133 510 ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1335 525 ,  G03H 1/02
FI (7件)：
G02F 1/1334 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G02F 1/133 510 ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1335 525 ,  G03H 1/02
Fターム (37件)：
2H049AA26 ,  2H049AA34 ,  2H049AA50 ,  2H049AA60 ,  2H049CA01 ,  2H049CA05 ,  2H049CA08 ,  2H049CA09 ,  2H049CA15 ,  2H049CA17 ,  2H049CA28 ,  2H089HA04 ,  2H089KA04 ,  2H089KA08 ,  2H089KA10 ,  2H089KA11 ,  2H089QA12 ,  2H089TA16 ,  2H089TA17 ,  2H091FA19Y ,  2H091FA29X ,  2H091FC23 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H093ND17 ,  2H093NF11 ,  2K008AA10 ,  2K008BB04 ,  2K008CC03 ,  2K008DD02 ,  2K008DD03 ,  2K008DD12 ,  2K008EE04 ,  2K008FF07 ,  2K008FF17 ,  2K008HH06 ,  2K008HH18
引用特許：
審査官引用 (10件)
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