特許
J-GLOBAL ID：200903092977858000
近接場光を用いた光学装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-217545
公開番号（公開出願番号）：特開2003-028774
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】高空間分解能と高感度を両立する近接場光学装置を提供する。【解決手段】異方性のある形状をした金属パターン106に発生する局在プラズモンを用いて高強度な近接場光を狭領域に発生させ、被測定対象物を照明する。入射光103の偏光方向104を変調し、信号光を同期検波することにより背景光を除去して高感度化を実現する。
請求項（抜粋）：
基板上に配置され尖端部を有する金属部材と、偏光方向を変調するための光源装置と、前記光源装置からの光を前記金属部材の尖端部に照射する光学部材と、前記金属部材の尖端部から発生する近接場光で試料を照明し、前記試料を透過した光、または前記試料に反射もしくは散乱された光を検出する検出器と、前記検出器からの電気信号より前記偏光変調に同期した信号を取り出すための分離器とを有してなることを特徴とする近接場光を用いた光学装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G01N 13/14 A
, G01N 13/14 B
, G11B 7/135 A
, G11B 7/135 Z
5D119AA22
, 5D119BA01
, 5D119JA34
