特許
J-GLOBAL ID:200903092982758391

感放射線性樹脂組成物

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-263226
公開番号(公開出願番号):特開平8-104808
出願日: 1994年10月03日
公開日(公表日): 1996年04月23日
要約:
【要約】【構成】 (A)ピロメリット酸二無水物および3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選ばれる少なくとも1種の芳香族テトラカルボン酸二無水物と、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルエーテルおよびp-フェニレンジアミンの3種の芳香族ジアミンのモル比が10〜90:10〜90:0〜35である芳香族ジアミン混合物とを主として反応させて得られるポリイソイミド、ならびに(B)放射線の照射により酸性を呈する化合物、を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【効果】 本発明の感放射線性樹脂組成物は、形成されるパターン状膜は耐熱性のイミド環を有する高分子から構成されているので、電気特性および機械的特性に優れ、そのまま絶縁材料として用いることができ、しかも上記のパターン状膜を形成する際、膜減りの問題が改善され、かつコントラストが良好である。
請求項(抜粋):
(A)ピロメリット酸二無水物および3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選ばれる少なくとも1種の芳香族テトラカルボン酸二無水物と、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルエーテルおよびP-フェニレンジアミンの3種の芳香族ジアミンのモル比が10〜90:10〜90:0〜35である芳香族ジアミン混合物とを主として反応させて得られるポリイソイミド、ならびに(B)放射線の照射により酸性を呈する化合物、を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
C08L 79/08 LRB ,  C08K 5/28 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027

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