特許
J-GLOBAL ID：200903092983067082
終点検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-261105
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085388
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 従来の発光分光分析型の終点検出方法の場合には、被処理層のエッチングが終了し、下地層が露出して特定波長の発光強度が変化した時点をエッチングの終点として検出するため、この時のオーバエッチングにより下地層が削られて損傷する。【解決手段】 本発明の終点検出方法は、プラズマを用いてゲート酸化膜O上のポリシリコン層Pをエッチングする際に、ポリシリコン層Pに白色光を照射し、ポリシリコン層Pの表面及びゲート酸化膜Oとの界面からの反射光のうち、2種類の波長を異にする反射光による2つの干渉光波形をそれぞれ検出した後、2つの干渉光波形の位相差に基づいて擬似終点を検出することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
プラズマを用いて下地層上の被処理層をエッチングする際に、上記被処理層に光を照射し、その反射光を用いてエッチングの終点を検出する方法において、上記被処理層に少なくとも2種類の波長を異にする光を照射し、上記被処理層の表面及び上記下地層との界面からの反射光のうち、2種類の波長を異にする反射光による2つの干渉光波形をそれぞれ検出した後、2つの干渉光波形の位相差に基づいて擬似終点を検出することを特徴とする終点検出方法。
Fターム (8件)：
5F004AA06
, 5F004BA04
, 5F004BB05
, 5F004CA03
, 5F004CB09
, 5F004CB16
, 5F004DB02
, 5F004EB02
