特許

J-GLOBAL ID：200903092992852728

洗浄方法

発明者： 小島 泉里
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-393571
公開番号（公開出願番号）：特開2002-192089
出願日： 2000年12月25日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】【課題】 十分な洗浄作用を備え、低コストで環境破壊の虞れのない洗浄方法を提供する。【解決手段】 H2O2(過酸化水素)やO3(オゾン)を含む洗浄液21を満たした洗浄バス10に被洗浄体としての基体を浸漬した状態で、紫外線や超音波などの高エネルギー線を供給したり加温する。H2O2(過酸化水素)やO3(オゾン)からOH・(ヒドロキシラジカル)を主成分とする活性酸素種が生成し、これが基体表面の汚染物質を分解することにより洗浄が行なわれる。

請求項（抜粋）：

活性酸素源を含む超純水にO3(オゾン)を供給して生成した活性酸素種の存在下に基体表面を洗浄することを特徴とする基体の洗浄方法。

IPC (5件)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 641 ,  H01L 21/304 647

FI (5件)：

B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 641 ,  H01L 21/304 647 Z

Fターム (13件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  3B201AA03 ,  3B201BB04 ,  3B201BB82 ,  3B201BB85 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201BC01 ,  3B201CC21