特許

J-GLOBAL ID：200903092993851148

リソグラフィー用現像液組成物とレジストパターン形成方法

発明者： 越山 淳 ,  脇屋 和正 ,  澤田 佳宏
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005015611
公開番号（公開出願番号）：WO2006-025292
出願日： 2005年08月29日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：

レジスト組成物自体の組成を変えることなく、使用によるレジストパターンの品質低下を伴わず、効率よくディフェクトを減少させうる新規なリソグラフィー用現像液組成物及びそれを用いてディフェクト発生率を減少させ、後続の特定のリンス液による処理と組合せてパターン倒れを制御する新規なレジストパターン形成方法を提供する。テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、含窒素複素環をもつモノマー構成単位を含む水溶性若しくはアルカリ可溶性ポリマーの中から選ばれた少なくとも1種を含む溶液からなる組成物であって、 (1)基板上にレジスト膜を設ける工程、 (2)該レジスト膜に対しマスクパターンを介して選択的に露光処理する工程、 (3)露光後加熱処理する工程、及び (4)上記組成物により現像処理する工程によりレジストパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

(A)テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド及び(B)分子構造中に窒素原子を有するモノマー構成単位を有する水溶性若しくはアルカリ可溶性ポリマーを含む溶液からなるリソグラフィー用現像液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/32 ,  H01L21/30 569E

Fターム (6件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096GA09 ,  2H096GA10 ,  2H096GA18 ,  5F046LA12