特許

J-GLOBAL ID：200903093000477692

p-ヒドロキシスチレン重合体の製造方法

発明者： ラインホルト、シュヴァルム ,  ディルク、フンホフ ,  ホルスト、ビンダー ,  フーベルト、スムダ
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 田代 烝治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-000489
公開番号（公開出願番号）：特開平6-298862
出願日： 1994年01月07日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】【目的】 240から260nmの波長帯域において低吸収性を示すヒドロキシスチレン重合体を製造する方法を提供すること。【構成】 フェノール性ヒドロキシル基が酸分裂基により保護されているp-ヒドロキシスチレンを、あるいはこのように保護されているp-ヒドロキシスチレンと他の重合可能エチレン性不飽和有機化合物との混合物を、フリーラジカル重合により95%以上重合転化し、次いでこの重合体を酸で処理し、この酸処理の間もしくはその後に、重合体を還元剤で処理することを特徴とする、p-ヒドロキシスチレン重合体の製造方法。

請求項（抜粋）：

フェノール性ヒドロキシル基が酸分裂基により保護されているp-ヒドロキシスチレンを、あるいはこのように保護されているp-ヒドロキシスチレンと他の重合可能エチレン性不飽和有機化合物との混合物を、フリーラジカル重合により95%以上重合転化し、次いでこの重合体を酸で処理し、この酸処理の間もしくはその後に、重合体を還元剤で処理することを特徴とする、p-ヒドロキシスチレン重合体の製造方法。

IPC (4件)：

C08F 12/24 MJY ,  C08F 8/04 MGB ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/032