特許
J-GLOBAL ID:200903093004075769
高品位トリアリルイソシアヌレートとその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 一雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-075099
公開番号(公開出願番号):特開平11-255753
出願日: 1998年03月10日
公開日(公表日): 1999年09月21日
要約:
【要約】【課題】 低ハロゲンイオン残量の高品位トリアリルイソシアヌレートとその製造方法を提供する。【解決手段】 非プロトン性極性溶媒中でシアン酸アルカリとハロゲン化アリルとを反応させてトリアリルイソシアヌレートを製造する。反応終了後、溶媒を留去し、塩酸水溶液にて洗浄し、トリアリルイソシアヌレートを含む有機層と水層を形成し、水層を分離する。本発明では、この後トリアリルイソシアヌレート含有有機層を、アルカリ性塩含有洗浄水によりアルカリ側で望ましくはシクロヘキサンの存在下洗浄する。次いでトリアリルイソシアヌレ一ト含有有機層を水層から分離すると、ハロゲンイオン残量0.5ppm以下のトリアリルイソシアヌレートが得られ、絶縁信頼性の高い耐熱性樹脂の架橋剤として好適に使用できる。特に集積度の高い電子基板用樹脂としてすぐれている。
請求項(抜粋):
ハロゲンイオン残量が0.5ppm以下であることを特徴とするトリアリルイソシアヌレート。
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