特許

J-GLOBAL ID：200903093038178460

電子ビーム近接露光装置及び露光方法

発明者： 島津 信生
出願人/特許権者： 株式会社リープル
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-222201
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043207
出願日： 2000年07月24日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】 高精度の位置合わせが可能で露光むらが少ない電子ビーム近接露光方式の実現。【解決手段】 電子ビーム源14と、電子ビーム整形手段18と、電子ビームの経路中に配置された開口を有するマスク30と、試料40を保持して移動するステージ44とを備え、マスク30は試料40の表面に近接して配置され、マスクの開口を通過した電子ビームでパターンを露光する電子ビーム近接露光装置であって、ステージ44に設けられた標準マーク60と、試料40の表面に設けられた試料位置合わせマーク及び標準マークを検出するマーク検出器38,64,66と、マスク位置合わせマークと標準マークの位置関係及び試料位置合わせマークと標準マークの位置関係から、マスク位置合わせマークと試料位置合わせマークの位置関係を算出して試料の所定の位置にパターンを露光するように制御する露光位置制御手段とを備える。

請求項（抜粋）：

電子ビームを発生する電子ビーム源と、前記電子ビームを整形する電子ビーム整形手段と、前記電子ビームの経路中に配置され、開口を有するマスクと、試料を保持して移動するステージとを備え、前記マスクは前記試料の表面に近接して配置され、前記マスクの開口を通過した電子ビームで、前記試料の表面に前記開口に対応するパターンを露光する電子ビーム近接露光装置であって、前記ステージの前記試料を保持する領域外に設けられた標準マークと、前記試料の表面に設けられた試料位置合わせマーク及び前記標準マークを検出するマーク検出器と、前記電子ビームを利用して検出した前記マスクに設けられたマスク位置合わせマークと前記標準マークの位置関係、及び前記マーク検出器を利用して検出した前記試料位置合わせマークと前記標準マークの位置関係から、前記マスク位置合わせマークと前記試料位置合わせマークの位置関係を算出し、算出した前記マスク位置合わせマークと前記試料位置合わせマークの位置関係に基づいて前記試料の所定の位置に前記パターンを露光するように制御する露光位置制御手段とを備えることを特徴とする電子ビーム近接露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/30 541 S

Fターム (12件)：

2H097BB10 ,  2H097CA16 ,  2H097GB00 ,  5F056AA22 ,  5F056BB03 ,  5F056BB06 ,  5F056BD02 ,  5F056BD03 ,  5F056BD06 ,  5F056CC02 ,  5F056CC10 ,  5F056FA06