特許

J-GLOBAL ID：200903093051211204

ガーネツト導波路の加工方法

発明者： 加藤 雄二郎 ,  杉本 直登 ,  館 彰之 ,  渋川 篤
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-072091
公開番号（公開出願番号）：特開平5-134124
出願日： 1992年02月24日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：

【要約】【目的】 矩形断面を有する低損失のガーネット導波路を形成する方法を提供する。【構成】 一般式R3 Fe5 O12で示される磁性ガーネット膜、又は該ガーネットの酸素以外の構成元素の一部を等価な価数を有する一種以上の元素で置き換えた置換型ガーネット膜で形成される導波路の加工方法において、所望の高さを有するガーネットのリッジを形成した後、リッジ上に残存する有機又は無機のマスク材をそのまま用いてガーネットを化学的に溶解しうるリン酸、臭化水素酸、リン酸トリ-n-ブチル、リン酸トリクレシル、リン酸トリフェニルの中から選ばれた一種以上を含む溶液中で導波路の上部表面を保護して処理するガーネット導波路の加工方法。【効果】 滑らかな側壁を有する矩形断面の導波路が形成できる。

請求項（抜粋）：

一般式R3 Fe5 O12で示される磁性ガーネット膜、又は該ガーネットの酸素以外の構成元素の一部を等価な価数を有する一種以上の元素で置き換えた置換型ガーネット膜で形成される導波路の加工方法において、所望の高さを有するガーネットのリッジを形成した後、リッジ上に残存する有機又は無機のマスク材をそのまま用いてガーネットを化学的に溶解しうるリン酸、臭化水素酸、リン酸トリ-n-ブチル、リン酸トリクレシル、リン酸トリフェニルの中から選ばれた一種以上を含む溶液中で導波路の上部表面を保護して処理することを特徴とするガーネット導波路の加工方法。

IPC (2件)：

G02B 6/12 ,  G02F 1/095