特許

J-GLOBAL ID：200903093057829048

ネガ型フオトレジスト組成物及びエツチング方法

発明者： 吉本 洋 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251778
公開番号（公開出願番号）：特開平7-140653
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】 光分解の感度が高い酸発生剤を含み、感度が高くかつ高解像力が得られ、更に現像残りが発生しにくいネガ型感光性組成物を提供する。この感光性組成物は、液晶表示基板加工用のマイクロフォトレジストとして特に有用であるが、その高感度という特徴を生かして半導体加工用及び平版用の感光性印刷版に利用することもできる。【構成】 光酸発生剤が一般式(I)または(II)で示される感光性s-トリアジン化合物と、ノボラック樹脂と、酸架橋性化合物、及び主成分がプロピレングリコールモノアルキルエーテルおよび/またはそのエステル類である溶剤を組み合わせてなるネガ型フオトレジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

?@一般式(I)または(II)で示される感光性s-トリアジン化合物、?Aノボラック樹脂、?B酸架橋性化合物、及び?C主成分がプロピレングリコールモノアルキルエーテルおよび/またはそのエステル類である溶剤を含有することを特徴とするネガ型フオトレジスト組成物。【化1】一般式(I)および(II)においてR1,R2は互いに同じでも異なっていてもよく、炭素原子1〜3個を有するハロアルキル基もしくはハロアルケニル基を、R3は水素原子もしくはメチル基を、R4は置換されていてもよいアリール基もしくは複素環式基を表す。nは1もしくは2を表す。

IPC (5件)：

G03F 7/029 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/02