特許

J-GLOBAL ID：200903093059803070

イオンビーム照射装置およびそれを用いた試料の処理方法

発明者： 関原 雄 ,  吉永 一正 ,  宍戸 貴男 ,  大島 英樹 ,  大鋸谷 薫 ,  大園 世子 ,  久保 真紀 ,  峯尾 江利子
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立超エル・エス・アイ・システムズ
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-161075
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354058
出願日： 1998年06月09日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 低いダメージで試料の処理ができるイオンビーム照射装置およびそれを用いた試料の処理方法を提供する。【解決手段】 X軸粗動、Y軸粗動、Z軸粗動、回転軸および第一傾斜軸を有する第一のステージ1aの上に、X軸微動、Y軸微動、Z軸微動および第二傾斜軸を有する第二のステージ1bが設置されているステージ1を有するイオンビーム照射装置を使って、試料のイオンビーム処理を行うものである。

請求項（抜粋）：

X軸粗動、Y軸粗動、Z軸粗動、回転軸および第一傾斜軸を有する第一のステージの上に、X軸微動、Y軸微動、Z軸微動および第二傾斜軸を有する第二のステージが設置されていることを特徴とするイオンビーム照射装置。

IPC (5件)：

H01J 37/20 ,  G01N 1/28 ,  G01N 1/32 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/30

FI (6件)：

H01J 37/20 A ,  G01N 1/32 B ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/30 Z ,  G01N 1/28 F ,  G01N 1/28 G