特許
J-GLOBAL ID:200903093062036536
オゾン浄化装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田澤 博昭 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-169941
公開番号(公開出願番号):特開平9-019694
出願日: 1995年07月05日
公開日(公表日): 1997年01月21日
要約:
【要約】【目的】 設置するのに広いスペースを必要とせず、水位調節の煩雑さが無く、設置作業の容易なオゾン浄化装置を提供する。【構成】 汚濁水とオゾン化空気とを混合してオゾン処理を行うオゾン反応領域25と、オゾンと汚濁水との反応により生じたオキシダントを除去するオキシダント除去領域31とを汚濁水上に浮遊する1個の浮き子18中に形成する。
請求項(抜粋):
汚濁水とオゾン化空気とを混合してオゾン処理を行うオゾン反応領域と、該オゾン反応領域でのオゾンと上記汚濁水との反応により生じたオキシダントを除去するオキシダント除去領域とを有するオゾン浄化装置において、上記オゾン反応領域と上記オキシダント除去領域とを上記汚濁水上に浮遊する1個の浮き子中に形成したことを特徴とするオゾン浄化装置。
IPC (4件):
C02F 1/78
, A01K 63/04
, C02F 1/20
, C02F 1/58
FI (4件):
C02F 1/78
, A01K 63/04 F
, C02F 1/20 A
, C02F 1/58 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平4-022486
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フロート型浄水装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-340511
出願人:サンデン株式会社
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特開平3-293094
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水域の浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-091697
出願人:日立機電工業株式会社
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