特許
J-GLOBAL ID：200903093075355096
電子放出装置及び陰極線管
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-116669
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313214
出願日： 2001年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：
【要約】【課題】加熱によってセシウム源からセシウム原子を放出させたとき、電子放出手段の上方に配設された金属層を確実にセシウムを含む合金層とするができる電子放出装置を提供する。【解決手段】電子放出装置は、(A)電子放出領域を備えた電子放出手段10と、(B)電子放出手段10が取り付けられた支持体12と、(C)電子放出手段12の上方に配設され、そして、アパーチャ24を有する電極部22と、該電極部22から支持体12を取り囲むように延在する延在部23とから成る電極部材21と、(D)電子放出手段10に面し、且つ、アパーチャ24近傍の電極部22の部分22Aに配設されたセシウムを含む合金層26と、(E)セシウム源30から構成され、セシウム源30は支持体12の直下に位置し、支持体12には貫通孔13が設けられている。
請求項（抜粋）：
(A)電子放出領域を備えた電子放出手段と、(B)電子放出手段が取り付けられた支持体と、(C)電子放出手段の上方に配設され、そして、アパーチャを有する電極部と、該電極部から支持体を取り囲むように延在する延在部とから成る電極部材と、(D)電子放出手段に面し、且つ、アパーチャ近傍の電極部の部分に配設されたセシウムを含む合金層と、(E)セシウム源、から構成された電子放出装置であって、セシウム源は支持体の下方に位置し、支持体には貫通孔が設けられていることを特徴とする電子放出装置。
IPC (3件)：
H01J 1/308
, H01J 29/04
, H01J 29/48
H01J 29/04
, H01J 29/48 A
, H01J 1/30 S
5C031DD09
, 5C031DD15
, 5C041AB03
, 5C041AB04
