レーザ描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松浦孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-062250
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239613
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】所望の描画パターンを少なくとも2つのバンド分のラスタデータに基づくそれぞれのパターンの合成によって得ら際にその両バンドの境界のつなぎ目を主走査方向にランダムに分散させて目立たなくする。【解決手段】レーザ描画装置は被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させて所定のパターンを描画するものであって、該パターンが少なくとも2つのバンドに基づく部分描画パターンの合成により得られるように構成される。双方の部分描画パターン間につなぎ領域が設定され、このつなぎ領域で双方の部分描画パターンの主走査方向ラインがランダムな個所でつながれて合成される。

請求項（抜粋）：

被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させて所定のパターンを描画するレーザ描画装置であって、前記パターンが少なくとも2つのバンドに基づく部分描画パターンの合成により得られるように構成されるレーザ描画装置において、前記双方の部分描画パターン間につなぎ領域が設定され、このつなぎ領域で前記双方の部分描画パターンの主走査方向の描画ラインがランダムな個所でつながれて合成されることを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 , G03F 7/20 505 , H01J 9/02

FI (3件)：

G02B 26/10 Z , G03F 7/20 505 , H01J 9/02 F

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