特許
J-GLOBAL ID:200903093107267704

基板洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 影井 俊次
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-159326
公開番号(公開出願番号):特開平10-337541
出願日: 1997年06月03日
公開日(公表日): 1998年12月22日
要約:
【要約】【目的】 擦動部材による基板の洗浄を効率的かつ高精度に行うことができ、かつセルフクリーニングできるようにする。【構成】 前後のローラ搬送体1,1間のスペースには、ブラシユニット12Aは基板搬送手段による搬送ラインの上方に、他方のブラシユニット12Bは搬送ラインより下方に位置して配置されており、各ブラシユニット12A,12Bの回転軸10の両端は軸受ブロック13に回転自在に支承され、これら各回転軸10の一方の端部には回転駆動手段としてのモータ14が連結されている。軸受ブロック13には支持アーム17が連結され、これら各支持アーム17の下端部にはカム板19の外周カム面を転動するカムフォロワローラ18が取り付けられ、ブラシユニット12A及びブラシユニット12Bの両側のカム板19,19間は連結軸20で連結されて、カム駆動モータ21により回転駆動されて、ブラシユニット12A,12Bは独立して上下動する。
請求項(抜粋):
基板搬送手段により水平搬送される基板の表裏両面を洗浄するために、回転軸に擦動部材を装着した擦動部材ユニットを基板の搬送経路の上下に配置して、基板の搬送中に上下の擦動部材をこの基板の表裏両面に当接させた状態で、回転駆動することにより基板の表裏両面を洗浄するものにおいて、前記基板の上下に配置された回転軸を、それぞれ独立の回転駆動手段により回転駆動すると共に、それぞれ独立の昇降駆動手段により前記両擦動部材を相互に近接・離間する方向に変位可能な構成としたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (2件):
B08B 1/02 ,  G02F 1/1333 500
FI (2件):
B08B 1/02 ,  G02F 1/1333 500
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭57-154888
  • 特開昭57-154888
  • 特開平3-156924
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