特許

J-GLOBAL ID：200903093133615460

射出成形金型の設計方法

発明者： 西山 秀作 ,  浅野 直樹 ,  木村 達夫 ,  今門 正幸 ,  山口 慎吾 ,  牧内 文彦
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-206048
公開番号（公開出願番号）：特開2003-048242
出願日： 1996年01月17日
公開日（公表日）： 2003年02月18日
要約：

【要約】【課題】 短時間に、かつ、容易に金型を設計することが可能となる射出成形金型の設計方法を提供すること。【解決手段】 制御手段が、製品形状又は金型形状をディスプレイ19に表示しながら製品形状を型抜き可能な形状に補正する補正ステップと、制御手段が、補正した製品形状をディスプレイ19上に表示された型ブロック100内に配置してその型ブロック100内に製品形状に対応する空洞100Aを設け、その後型ブロック100をコア4とキャビティと3に分割する分割ステップとを有し、補正ステップに、制御手段が、製品形状又は金型形状を構成する線又は面の一部をディスプレイ19上から一時的に削除し、形状補正が完了した後に上記線又は面をディスプレイ19上に再描画するステップが含まれることを特徴とする射出成形金型の設計方法による。

請求項（抜粋）：

制御手段が、製品形状又は金型形状を画面に表示しながら前記製品形状を型抜き可能な形状に補正する補正ステップと、前記制御手段が、前記補正した製品形状を画面上に表示された型ブロック内に配置して前記型ブロック内に前記製品形状に対応する空洞を設け、その後前記型ブロックをコアとキャビティとに分割する分割ステップとを有し、前記補正ステップに、前記制御手段が、前記製品形状又は金型形状を構成する線又は面の一部を前記画面上から一時的に削除し、形状補正が完了した後に前記線又は面を画面上に再描画するステップが含まれることを特徴とする射出成形金型の設計方法。

IPC (3件)：

B29C 45/76 ,  B29C 45/26 ,  G06F 17/50 680

FI (3件)：

B29C 45/76 ,  B29C 45/26 ,  G06F 17/50 680 C

Fターム (9件)：

4F202AM23 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD28 ,  4F206AM23 ,  4F206JA07 ,  4F206JQ81 ,  5B046AA05 ,  5B046KA05