特許
J-GLOBAL ID:200903093135241745

X線照射用光学系及びそれを用いたX線投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田中 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-085924
公開番号(公開出願番号):特開平5-259036
出願日: 1992年03月09日
公開日(公表日): 1993年10月08日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 被露光体に投影されるX線像が、垂直方向に関し、X線像縮小用反射光学系を構成しているミラ-に欠陥があっても、その欠陥に影響される度合に関し、その度合が格段的に小さくなるようにする。【構成】 X線投影露光装置において、X線照射用光学系6の集束用ミラ-7が、光源位置P1からの上記X線を、光源位置でのX線像の垂直方向の結像位置及び水平方向の結像位置が反射型マスク5の近傍前位置及び上記被照射体としての反射型マスクの後位置としてのX線結像縮小用反射光学系11の入射瞳位置P2にそれぞれ位置するように集束させるミラ-面を有する。
請求項(抜粋):
光源位置から、水平方向には比較的広い広がり角で広がるが垂直方向には比較的狭い広がり角でしか広がらないで得られるX線を、被照射体に照射させる、集束用ミラ-を用いて構成されたX線照射用光学系において、上記集束用ミラ-が、上記光源位置からの上記X線を、上記光源位置でのX線像の垂直方向の結像位置及び水平方向の結像位置が上記被照射体の近傍前位置及び上記被照射体の後位置にそれぞれ位置するように集束させるミラ-面を有することを特徴とするX線照射用光学系。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H05H 13/04

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