特許
J-GLOBAL ID：200903093148088822
原料中の金属イオンの低減
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-515366
公開番号（公開出願番号）：特表平8-505886
出願日： 1993年12月20日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：
【要約】本発明は、金属イオン含有量が非常に低く、本質的に一定した分子量を有する、水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂の製造法を提供する。その様なノボラック樹脂からフォトレジスト組成物を製造する方法およびその様なフォトレジスト組成物を使用して半導体デバイスを製造する方法も提供する。
請求項（抜粋）：
下記のa)〜d)を含んでなることを特徴とする、水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂の製造法。 a)酸性イオン交換樹脂を水で洗浄し、イオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄して、それによってイオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンをそれぞれ500ppb未満に減少させること、b)水/ホルムアルデヒド溶液をイオン交換樹脂に通して、それによって溶液のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ500ppb未満に下げること、 次いで、c)1種またはそれより多いフェノール性化合物をイオン交換樹脂に通して、それによってナトリウムおよび鉄イオンの含有量をそれぞれ200ppb未満に下げるか、または 1種またはそれより多いフェノール性化合物を蒸留して、それによってナトリウムおよび鉄イオンの含有量をそれぞれ200ppb未満に下げるか、または 1種またはそれより多いフェノール性化合物から鉱酸溶液で金属イオンを抽出して、それによってナトリウムおよび鉄イオンの含有量をそれぞれ200ppb未満に下げること、およびd)縮合前にルイス塩基濃度を約10〜1000ppmの水準に調節し、触媒の存在下で、このホルムアルデヒドをこの1種またはそれより多いフェノール性化合物と縮合させて、それによって所望の、本質的に一定した分子量を有し、ナトリウムおよび鉄イオン量がそれぞれ500ppb未満である、水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂を製造すること。
IPC (2件)：
C08G 8/08 NBD
, G03F 7/023 511
