特許

J-GLOBAL ID：200903093148180745

2置換サッカリン誘導体タンパク質分解酵素阻害剤

発明者： リチャード ポール ダンラップ ,  ニール ウォーラン ボーズ ,  アルバート ジョセフ ムーラ ,  デニス ジョン ラスタ ,  ランジット チマンラル デサイ ,  チャクラパニ サブラマンヤム ,  リー ハミルトン ラティマー ,  エリック ピアット ロッジ
出願人/特許権者： スターリング ウィンスロップ インコーポレイティド
代理人 (1件)： 青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-305295
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194444
出願日： 1992年11月16日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：

【要約】【構成】 次式【化1】(上式中、Lは、-O-,-S-,-SO-もしくは-SO2 -であり、m及びnは、各々独立して0もしくは1であり、R1 は、ハロ、低級アルカノイル、1-オキソフェナレニル、フェニルもしくは置換フェニル、ヘテロサイクリルもしくは置換ヘテロサイクリル、又はLが-O-でありかつnが1である場合にシクロヘプタトリエノン-2-イル、又はLが-S-でありかつnが1である場合にシアノもしくは低級アルコキシチオカルボニル、又はLが-SO2 -でありかつnが1である場合に低級アルキルもしくはトリフルオロメチルであり、R2 は、水素、低級アルコキシカルボニル、フェニルもしくはフェニルチオであり、そしてR3 及びR4 は、各々水素もしくは各種の置換基である)で示される新規2-置換サッカリン類及び製造方法並びに薬用組成物及びそれらの使用方法を開示する。【効果】 タンパク質分解酵素の酵素活性を阻害する本発明の新規2-置換サッカリン類は、変性疾患の治療に有用である。

請求項（抜粋）：

次式【化1】(上式中、Lは、-O-,-S-,-SO-もしくは-SO2 -であり、m及びnは、各々独立して0もしくは1であり、R1 は、1-(4-低級アルキルピペラジン-1-イル)カルボニル、ホルミル、低級アルコキシカルボニル、4-チアモルホリニルスルホニルもしくはそれらのS-ジオキシド、ヒドロキシ低級アルキル、ハロ低級アルキル、4-モルホリニル低級アルキルアミノカルボニル、4-モルホリニル低級アルコキシカルボニル、1-(4-低級アルキルピペラジン-1-イル)スルホニル、4-モルホリニル低級アルコキシ、ジ低級アルキルアミノ-低級アルキルアミノスルホニルもしくはそれらのN-低級アルキル誘導体、低級アルキルスルホニル、4,5-ジヒドロオキサゾール-2-イル、低級アルキルテトラゾール-5-イル、4-モルホリニルカルボニル、ニトロフェニルアゾ、カルボキシル又はジ低級アルキルホスホニルで置換されたフェニル、又はピリダジン-3-イル、4-ピロン-3-イル、キノリン-8-イル、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、クマリン-7-イル、サッカリン-6-イル、イミダゾール-1-イル、1,3,4-トリアゾール-2-イル、チアゾール-2-イル、2-チオキソ-2,3-ジヒドロ-1,3,4-オキサジアゾール-3-イル、1,2,5-チアジアゾール-3-イル、2-チオキソ-2,3-ジヒドロ-1,3,4-チアジアゾール-3-イル、2-チオキソ-2,3-ジヒドロ-1,3,4-チアジアゾール-5-イル、1,2,3-トリアゾール-2-イル、1,2,4-トリアジン-5-イル、5-オキソ-6-ヒドロキシ-4,5-ジヒドロ-1,2,4-トリアジン-3-イル、イソオキサゾール-5-イル、イソオキサゾール-3イル、4,5-ジヒドロ-5-オキソ-1,2,4-オキサジアゾール-4-イル、ピリジル、1,1,3-トリオキソテトラヒドロ-1,2,5-チアジアゾール-2-イル、6,7-ジヒドロ-1H-1,2,4-トリアゾロ〔3,4-b〕〔1,3〕チアジン-3-イル、4,5-ジヒドロ-5-オキソ-1,2,4-オキサジアゾール-4-イル、2,5-ジオキソピロリジン-1-イル、3-インドリル、オキサゾール-2-イル、チアゾール-4-イル、2,3-ジヒドロ-2-オキソ-5-フェニル-1,3,4-チアジアゾール-3-イル、2,3-ジヒドロ-2-オキソ-5-フェニル-1,3,4-オキサジアゾール-3-イル、6-オキソ-1,2-ジヒドロ-1,2,4-トリアジン-1-イル、1,2,3-トリアジン-1-イル及び1-インドリルより選ばれるヘテロサイクリル、又は、いずれか利用可能な窒素原子において、低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、シクロアルキル、2-,3-もしくは4-ピリジニル、カルボキシ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、アミノカルボニル低級アルキル、低級アルキルアミノカルボニル低級アルキル、ジ低級アルキルアミノカルボニル低級アルキル、アミノ低級アルキル、低級アルキルアミノ低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、4-モルホリニル低級アルキル、1-ピペリジニル低級アルキル、1-ピロリジニル低級アルキルもしくはフェニル又はアミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アルカナミド、N-低級アルキル低級アルカナミド、カルボキシ低級アルカナミド、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシもしくはハロで置換されたフェニルで置換された上記ヘテロサイクリル、又は、いずれか利用可能な炭素原子においてニトロ、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、シクロアルキルアミノ、メルカプト、低級アルキルチオ、アミノ低級アルキルチオ、低級アルキルアミノ低級アルキルチオ、ジ低級アルキルアミノ低級アルキルチオ、4-モルホリニル低級アルキルチオ、1-ピペリジニル低級アルキルチオ、1-ピロリジニル低級アルキルチオ、低級アルコキシカルボニル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、4-モルホリニル低級アルキルアミノ、シアノ、1-ピペリジニル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、フェニルスルホニル、トルエンスルホニル、ハロ、トリ低級アルキルシリル、カルボキシもしくはそれらのアルカリ金属塩、フリル、トリフルオロメチル、2-ベンゾチアゾリル、低級アルキルスルホニル、アミノカルボニル、ベンジル、4-モルホリニル、ピリジニル、低級アルコキシ、ピラジニル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、ジ低級アルキルアミノスルホニル、1-ピペリジニルカルボニル、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、4-モルホリニル低級アルキル、ベンゾイルもしくは低級アルコキシ又はハロで置換されたベンゾイル、又はフェニルもしくはアミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アルカナミド、N-低級アルキル低級アルカナミド、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、低級アルコキシポリ低級アルコキシ、メチレンジオキシもしくは低級アルコキシカルボニルで置換されたフェニルで置換された上記ヘテロサイクリル、又は、いずれか利用可能な炭素原子において、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、4-モルホリニル低級アルキルアミノ、シアノ、1-ピペリジニル低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、フェニルスルホニル、トルエンスルホニル、ハロ、トリ低級アルキルシリル、カルボキシもしくはそれらのアルカリ金属塩、フリル、トリフルオロメチル、2-ベンゾチアゾリル、低級アルキルスルホニル、アミノカルボニル、ベンジル、4-モルホリニル、ピリジニル、低級アルコキシ、ピラジニル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、ジ低級アルキルアミノスルホニル、1-ピペリジニルカルボニル、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、4-モルホリニル低級アルキル、ベンゾイルもしくは低級アルコキシ又はハロで置換されたベンゾイル、又はトリフルオロメチル、低級アルコキシポリ低級アルコキシ、メチレンジオキシもしくは低級アルコキシカルボニルで置換されたフェニルで置換された、1H-(5-テトラゾリル)、5-オキソ-1-テトラゾリル、5-チオキソ-1-テトラゾリル(本明細書で後に定義されるR2 が、フェニルチオ以外のものである場合)、ピリミジニル、2-ベンゾオキサゾリル、2-ベンゾチアゾリル、2-フタルイミジル、2-(1,3,4-チアジアゾリル)、5-(1,2,4-チアジアゾリル)、5-チオキソ-3-(1,2,4-チアジアゾリニル)、4-(5-オキソ-1,3,4-チアジアゾリニル)、4-(5-チオキソ-1,3,4-チアジアゾリニル)、3-(1,2,4-トリアゾリル)、4-(1,2,4-トリアゾリル)、1,2,3-トリアゾール-1-イル、2-イミダゾリル及び3-(1,2,4-トリアゾロ〔4,3-a〕ピリジニル)より選ばれるヘテロサイクリル、であり、又はR4 がカルボキシ低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシもしくはジ低級アルキルアミノカルボニルオキシである場合にはヘテロサイクリルが1-フェニルテトラゾール-5-イルであり、又はLが-O-でありかつnが1である場合に、シクロヘプタトリエノン-2-イル、又はLが-S-でありかつnが1である場合に、シアノもしくは低級アルコキシチオカルボニル、又はLが-SO2 -でありかつnが1である場合に、低級アルキルもしくはトリフルオロメチルであり、R2 は、水素、低級アルコキシカルボニル、フェニルもしくはフェニルチオであり、R3 は、水素、ハロ、第一級もしくは第二級低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、フェニル、フルオロ低級アルキル、低級アルケニル、シアノもしくはジ低級アルキルアミノであり、そしてR4 は、水素、又はハロ、シアノ、ニトロ、アミノ、低級アルカナミド、フェニル低級アルカナミド、ジフェニル低級アルカナミド、低級アルキルスルホニルアミノ、ポリフルオロ低級アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、低級アルキル、ポリハロ低級アルキル、シクロアルキル、ポリハロ低級アルコキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、ヒドロキシメチル、ホルミル、アミノメチル、低級アルキルスルホニル、ポリハロ低級アルキルスルホニル、低級アルキルスルホニルアミノスルホニル、低級アルコキシ低級アルコキシ、低級アルコキシポリ低級アルキレンオキシ、カルボキシ低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシもしくはジ低級アルキルアミノカルボニルオキシより選ばれる1〜3個の置換基であり、(1)nが0である場合には、R1 はヘテロサイクリルであることのみ可能であり、かつCHR2 はR1 の環窒素原子にのみ結合でき、そして(2)mが0であり、nが1であり、Lが-O-,-S-もしくは-SO-であり、かつR2 ,R3 及びR4 がすべて水素である場合、もしくはmが0であり、nが1であり、Lが-S-であり、R2 及びR4 が水素であり、かつR3 がハロである場合、又はmが0であり、nが1であり、Lが-SO-もしくは-SO2 -であり、R2 が低級アルコキシカルボニルであり、かつR3 及びR4 が両方とも水素である場合には、R1 が置換フェニルでないことを条件とする)で示される化合物。

IPC (5件)：

C07D275/06 ,  A61K 31/425 ABG ,  A61K 31/425 AED ,  A61K 31/47 ABE ,  C07D417/12