特許
J-GLOBAL ID:200903093153075178
制御されたラジカル重合によって調製されるブロックコポリマーおよび流動改変剤としてのその使用
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-501995
公開番号(公開出願番号):特表2003-501517
出願日: 2000年06月02日
公開日(公表日): 2003年01月14日
要約:
【要約】以下を含み、そしてそれを提供する少なくとも2つのブロックを含むブロックコポリマーが提供される:(a)ヒドロキシ官能基を含まない、少なくとも1つの第1のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマー、および必要に応じて、少量の少なくとも1つのヒドロキシ官能性のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマーの残基を含む第1のブロック、ならびに(b)ヒドロキシ官能基を含まない、少なくとも1つの第2のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマー、および必要に応じて、少量の少なくとも1つのヒドロキシ官能性のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマーの残基を含む第2のブロック。この第2のモノマーの算出されたTgは、第1のモノマーの算出されたTgよりも少なくとも20°C高い。また、このブロックコポリマーを流動添加剤として含む熱硬化性コーティング組成物が提供される。
請求項(抜粋):
ブロックコポリマーであって、以下:(a)5〜95重量%の第1のブロックであって、ヒドロキシ官能基を含まない少なくとも1種類の第1のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマー、および1〜20重量%の量の少なくとも1種類のヒドロキシ官能性のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマーの残基を含む、第1のブロック;ならびに(b)5〜95重量%の第2のブロックであって、ヒドロキシ官能基を含まない少なくとも1種類の第2のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマー、および1〜20重量%の少なくとも1種類のヒドロキシ官能性のエチレン性不飽和のラジカル重合可能なモノマーの残基を含む、第2のブロック;を含有し、ここで、該第2のモノマーの算出されたTgが、該第1のモノマーの算出されたTgよりも20°C〜235°C高く; ここで該ブロックコポリマーの数平均分子量が、500〜100,000である、ブロックコポリマー。
IPC (5件):
C08F293/00
, C09D153/00
, C09D201/00
, C09D201/02
, C09D201/06
FI (5件):
C08F293/00
, C09D153/00
, C09D201/00
, C09D201/02
, C09D201/06
Fターム (31件):
4J026HA11
, 4J026HA20
, 4J026HA29
, 4J026HB11
, 4J026HB20
, 4J026HC02
, 4J026HC05
, 4J026HC06
, 4J026HC10
, 4J026HE05
, 4J038CB111
, 4J038CC081
, 4J038CF011
, 4J038CG141
, 4J038CH031
, 4J038CH041
, 4J038CH071
, 4J038CH121
, 4J038CH171
, 4J038CP02
, 4J038CQ001
, 4J038DD082
, 4J038DG302
, 4J038GA03
, 4J038GA09
, 4J038JA17
, 4J038JA39
, 4J038JB12
, 4J038KA03
, 4J038MA13
, 4J038PA19
引用特許:
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