特許
J-GLOBAL ID:200903093154425822
ウエハ洗浄液
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三枝 英二 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-211163
公開番号(公開出願番号):特開2001-040389
出願日: 1999年07月26日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 極めて低いエッチングレートのウエハ洗浄液を提供する。【解決手段】 界面活性剤を含有するアルカリ水溶液である低エッチングレートのシリコン又はポリシリコンウエハ洗浄液。
請求項(抜粋):
界面活性剤を含有するアルカリ水溶液である低エッチングレートのシリコン又はポリシリコンウエハ洗浄液。
IPC (4件):
C11D 1/04
, C11D 1/12
, C11D 1/22
, C11D 1/72
FI (4件):
C11D 1/04
, C11D 1/12
, C11D 1/22
, C11D 1/72
Fターム (10件):
4H003AB04
, 4H003AB19
, 4H003AB20
, 4H003AB24
, 4H003AB27
, 4H003AC08
, 4H003AC11
, 4H003DA15
, 4H003DB01
, 4H003EB19
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