特許
J-GLOBAL ID：200903093162595524
改良形レーザパターン発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-511192
公開番号（公開出願番号）：特表平8-507410
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】レーザパターン発生装置。本発明のレーザパターン発生装置は加工物516上の放射感応性フィルムを露光して基板上に回路パターンをプリントするためにレーザビーム501を使用する。レーザビームはビームステアリング手段を使用してアラインメントする。レーザビーム501は32本のビームに分割してブラシを形成する。ブラシで回転ポリゴンミラー510の使用を通して加工物516を走査する。ブラシの各々のビームは17の強度値の1つを持つことができる。ビームは音響光学変調器506に与えられる音響光学変調器506信号により変調して発生するパターンを定める。信号はラスタライザ507により作成する。幅広のブラシと物理的なステージパスをなくしたプリント戦略を使用することでプリント速度の増大を達成する。
請求項（抜粋）：
放射エネルギーに感応するフィルムを有する加工物上にパターンを生成する装置において、 a) 放射エネルギービームを出すレーザと、 b) 前記放射エネルギービームを整列するビームステアリング手段と、 c) 前記放射エネルギービームを第1の組のビームとその第1の組のビームから個々のビーム間の距離以上の距離だけ離れている第2の組のビームに編成された複数のビームに分割するビーム分割手段と、 d) 前記パターンを決める信号に対応する前記複数のビームの各々の強度を変える変調手段と、 e) 複数のファセットを有して前記複数のビームを前記加工物上で走査させる回転ミラーと、 f) 前記変調手段への信号の供給のタイミングを合わせるタイミング手段と g) 前記加工物を保持して移動するステージとからなる前記装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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