処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-139363
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326565
出願日： 1994年05月30日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】処理液の供給を適正に管理して、スループットの向上及び歩留まりの向上を図る。【構成】半導体ウエハWに処理液としてのレジストを供給するレジスト供給ノズル24とレジストタンク31とをレジスト供給管路30で接続する。レジスト供給管路30に介設される電動ポンプ32のポンプ部分42に圧力センサ50の検出体51を配設し、圧力センサ50からの検出信号をCPU52に伝達する。これにより、レジスト供給管路30に介設されるフィルタ33の目詰まり、レジストタンク31内のレジストの液切れ等の圧力変動を検知することができる。

請求項（抜粋）：

被処理体に処理液を供給する処理液供給手段と、この処理液供給手段と処理液供給源とを接続する処理液供給管路とを具備する処理装置において、上記処理液供給管路に介設される処理液圧送手段と、上記処理液圧送手段における処理液の流通部に検出体を配設する圧力検出手段と、上記圧力検出手段からの検出信号に基いて所定の制御信号を発する制御手段とを具備する、ことを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 502

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-021309
特開平2-001113
特開昭64-008620

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