特許
J-GLOBAL ID：200903093172964170

光ファイバ母材の製造方法

発明者：
和田 裕之

和田 裕之 について

, 
仲 恭宏

仲 恭宏 について


出願人/特許権者：
古河電気工業株式会社

古河電気工業株式会社 について


代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-328380
公開番号（公開出願番号）：特開2003-137583
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 大型多孔質母材を脱水ガラス化処理する工程で、処理時間を短縮し、またヘリウムガス使用量を低減した光ファイバ母材の製造方法を提供する。【解決手段】 多孔質母材をへリウム含有ガス雰囲気下で脱水ガラス化する光ファイバ母材の製造方法で、待機中においては、炉芯管内にへリウム含有ガスを供給せずに窒素ガスを供給し、炉芯管内がへリウム含有ガスに完全に置換される時間を待たずに脱水処理への多孔質母材の引き下げを開始し、多孔質母材を脱水ガラス化処理し、ガラス化終了時には、炉芯管内温度を降温しながら、炉芯管内のヘリウム含有ガスを窒素ガスに置換する。
請求項（抜粋）：
光ファイバ多孔質母材をへリウム含有ガス雰囲気下で脱水ガラス化する光ファイバ母材の製造方法であって、脱水ガラス化処理待機中は、炉芯管内にへリウム含有ガスを供給せずに窒素ガスを供給し、多孔質母材を炉芯管内に挿入後ヘリウム含有ガスを供給し、炉芯管内がへリウム含有ガスに完全に置換される時間を待たずに脱水処理位置への多孔質母材の引き下げを開始し、多孔質母材を脱水処理、ガラス化処理し、ガラス化処理終了後には、炉芯管内温度を降温しながら炉芯管内のヘリウム含有ガスを窒素ガスに置換することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
Fターム (2件)：
4G021CA11 ,  4G021CA13
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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