特許
J-GLOBAL ID:200903093176479683
金属薄膜易接着性プラスチック基材、金属薄膜形成プラスチック基材及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
光来出 良彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-274169
公開番号(公開出願番号):特開平6-122777
出願日: 1992年10月13日
公開日(公表日): 1994年05月06日
要約:
【要約】【目的】 フレキシブルプリント基板、メンブレンスイッチ、デジタイザー等に使用されるプラスチックフィルムに金属薄膜を形成したものは、金属薄膜が剥奪したり、亀裂が生じたりする不都合があった。そこで本発明は、金属薄膜の接着性の改善された、金属薄膜易接着性プラスチック基材を提供する。【構成】 予め易接着処理が施されているか、施されていないプラスチック基材に対して、シラノール系プライマーを塗布して加熱乾燥する。得られた金属薄膜易接着性プラスチック基材に対して真空蒸着等により、例えば、インジウムチンオキサイドの薄膜を形成する。シラノール系プライマーはプラスチック基材と金属薄膜との接着性を改善する。
請求項(抜粋):
プラスチック基材上にシラノール系プライマーを塗布したことを特徴とする金属薄膜易接着性プラスチック基材の製造方法。
IPC (3件):
C08J 7/04
, B32B 15/08
, H05K 3/38
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭61-277114
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特開昭61-079647
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特開昭59-169846
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