特許
J-GLOBAL ID：200903093183307812
光学活性ジオールの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-300366
公開番号（公開出願番号）：特開平5-137591
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【目的】 ジオールの経時的な光学純度の低下を防止する。【構成】 ジオールのエナンチオマー混合物を不斉的に資化する能力を有する微生物を作用させ、残存する光学活性ジオールを採取する製造方法に於いて、反応終了液に、光学純度低下防止剤を添加することにより、残存する光学活性ジオールの光学純度の低下を防ぐことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ジオールのエナンチオマー混合物に微生物を作用させ残存する光学活性ジオールを採取する光学活性ジオールの製造方法に於いて、反応終了液に光学純度低下防止剤を添加することにより、残存する光学活性ジオールの光学純度の低下を防ぐことを特徴とする光学活性ジオールの製造方法。
IPC (2件)：
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