特許

J-GLOBAL ID：200903093184436250

アモルファスシリコン膜の製造方法及び製造装置

発明者： 徳重 裕之 ,  米本 隆治 ,  佐野 謙一 ,  高橋 純三 ,  真下 啓治 ,  宮川 亜夫
出願人/特許権者： 株式会社ライムズ
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-054822
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045254
出願日： 1992年03月13日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、健全な性状のアモルファスシリコン膜を得ることを主要な目的とする。【構成】 減圧した真空槽(1) において、マイクロ波の電子サイクロトロン共鳴によるグロー放電プラズマを用いてシランガスを分解し、基板(4) 上に水素化アモルファスシリコン膜を製造するにあたり、前記基板(4) に向けて不活性ガスのイオンビームを照射して前記アモルファスシリコン膜表面への欠陥発生を防止することを特徴とするアモルファスシリコン膜の製造方法及び製造装置。

請求項（抜粋）：

減圧した容器内において、マイクロ波の電子サイクロトロン共鳴によるグロー放電プラズマを用いてシランガスを分解し、基板上に水素化アモルファスシリコン膜を製造するにあたり、前記基板に向けて不活性ガスのイオンビームを照射して前記アモルファスシリコン膜表面への欠陥発生を防止することを特徴とするアモルファスシリコン膜の製造方法。

IPC (6件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/24 ,  C30B 25/02 ,  H01L 31/04 ,  C23C 14/22 ,  H01L 21/28 301