特許
J-GLOBAL ID：200903093206513997
ガス処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高野 則次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-124236
公開番号（公開出願番号）：特開平11-302852
出願日： 1998年04月17日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】【課題】 シリコンを含む排ガスからシリコンを容易に回収することが困難であった。【解決手段】 容器11と粉体収容箱12とガス導入管13とガス排出管14とを設ける。ガス導入管13から温度の高いシリコンを含む排ガスを容器11の中に放出する。排ガスの温度が下がることによって気相のシリコンがシリコン酸化物の粉体となり、自重で収容箱12に落下する。シリコンが除去された残留ガスはガス排出管14から送り出される。
請求項（抜粋）：
温度が低下した時に粉体が生成されるガスを処理する装置であって、前記ガスを導入するための空所を有し、且つ粉体が生成されるように前記ガスの温度を下げることができるように形成されている外囲体と、前記外囲体の底面上に着脱自在に配置され且つ少なくとも上方の一部が開放されている粉体収容箱と、温度が低下した時に粉体が生成される前記ガスを前記外囲体の中に導入するガス導入手段と、前記粉体が生成された後に残ったガスを前記外囲体から排出させる残留ガス排出手段とを備えていることを特徴とするガス処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C23C 16/44 E
, C23C 16/44 D
, H01L 21/205
