特許
J-GLOBAL ID:200903093213411830

コバルト酸リチウム原料用高嵩密度コバルト化合物とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 鴨田 朝雄 ,  鴨田 哲彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-195974
公開番号(公開出願番号):特開2004-035342
出願日: 2002年07月04日
公開日(公表日): 2004年02月05日
要約:
【課題】リチウムイオン二次電池の正極活物質であるコバルト酸リチウムの原料として、球状の粒子からなり、高い嵩密度コバルト化合物(添加金属元素が粒子内に拡散しているものを含む)を得る。【解決手段】酸化コバルト、水酸化コバルト、オキシ水酸化コバルト、炭酸コバルトからなる群より選ばれたコバルト塩、および前記コバルト塩に周期律表1A族〜6B族のうち1種類以上の金属元素を添加して粒子内拡散させたコバルト塩のいずれかからなり、前記コバルト塩の粒子の形状が、球状または楕円球状であり、前記コバルト塩のタップ密度が1.8g/ml〜2.5g/mlであり、累積分布と粒径との関係においてD50が3〜10μm、D10が1μm以上、D90が30μm未満であり、かつ比表面積が100m2/g以上である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
酸化コバルト、水酸化コバルト、オキシ水酸化コバルト、炭酸コバルトからなる群より選ばれたコバルト塩、および前記コバルト塩に周期律表1A族〜6B族のうち1種類以上の金属元素を添加して粒子内拡散させたコバルト塩のいずれかからなり、前記コバルト塩の粒子の形状が、球状または楕円球状であり、前記コバルト塩のタップ密度が1.8g/ml〜2.5g/mlであり、累積分布と粒径との関係においてD50が3〜10μm、D10が1μm以上、D90が30μm未満であり、かつ比表面積が100m2/g以上であることを特徴とするコバルト酸リチウム原料用コバルト化合物。
IPC (2件):
C01G51/04 ,  C01G51/00
FI (2件):
C01G51/04 ,  C01G51/00 A
Fターム (16件):
4G048AA02 ,  4G048AA05 ,  4G048AB01 ,  4G048AC06 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  5H050AA08 ,  5H050AA19 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050FA17 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050HA05 ,  5H050HA07 ,  5H050HA08

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