パターン形成材料、パターン形成方法、及びパターン

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-031061
公開番号（公開出願番号）：特開2008-003558
出願日： 2007年02月09日
公開日（公表日）： 2008年01月10日
要約：

【課題】高感度及び高解像度で、剥離性及びテント性が良好であり、且つ、現像残渣がなく、エッチング性も良好で、しかもエッジフュージョン(端面融着)の発生がないパターン形成材料、前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法、前記パターン形成方法により形成されるパターンを提供する。【解決手段】支持体と、前記支持体上に積層した感光層とを有するパターン形成材料において、前記感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及びベンゾトリアゾール系化合物を含む感光性組成物からなり、前記バインダーの質量平均分子量が40,000〜200,000であり、前記感光層に対し、露光し現像する際に、前記感光層の厚みを露光及び現像の前後で変化させない光の最小エネルギーが0.1〜20mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料等である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

支持体と、前記支持体上に積層した感光層とを有するパターン形成材料において、前記感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及びベンゾトリアゾール系化合物を含む感光性組成物からなり、前記バインダーの質量平均分子量が40,000〜200,000であり、前記感光層に対し、露光し現像する際に、前記感光層の厚みを露光及び現像の前後で変化させない光の最小エネルギーが0.1〜20mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/033 , H01L 21/027 , H05K 3/06 , C08F 2/44

FI (5件)：

G03F7/004 501 , G03F7/033 , H01L21/30 502R , H05K3/06 J , C08F2/44 B

Fターム (64件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA16 , 2H025AB11 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC14 , 2H025BC43 , 2H025BC66 , 2H025CA28 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB55 , 2H025CC13 , 2H025CC15 , 2H025CC20 , 2H025EA08 , 2H025FA17 , 2H025FA40 , 4J011AA05 , 4J011AC04 , 4J011BB01 , 4J011BB02 , 4J011CA02 , 4J011CA06 , 4J011CA08 , 4J011CC04 , 4J011CC10 , 4J011PA28 , 4J011PA38 , 4J011PA43 , 4J011PA69 , 4J011PB40 , 4J011QA04 , 4J011QA13 , 4J011RA03 , 4J011RA16 , 4J011RA17 , 4J011UA02 , 4J011VA01 , 4J011WA01 , 5E339AB01 , 5E339AB05 , 5E339AC01 , 5E339BE13 , 5E339CC01 , 5E339CC02 , 5E339CD01 , 5E339CE11 , 5E339CE14 , 5E339CE16 , 5E339CF01 , 5E339CF05 , 5E339CF06 , 5E339CF07 , 5E339CF16 , 5E339CF17 , 5E339CG04 , 5E339DD03 , 5E339DD04 , 5E339GG02

引用特許：

出願人引用 (8件)

特公昭50-9177号公報
特開昭57-148392号公報
特開昭61-166541号公報

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