特許
J-GLOBAL ID:200903093221802547

量子化Si光半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 敬四郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-341290
公開番号(公開出願番号):特開平5-175535
出願日: 1991年12月24日
公開日(公表日): 1993年07月13日
要約:
【要約】【目的】 Siを用いた光半導体装置に関し、新規な機構を有する量子化Si光半導体装置を提供することを目的とする。【構成】 量子化されたレベルを有する活性Si領域と、前記活性Si領域を囲む絶縁物領域と、前記絶縁物領域の一方の側に配置されたp型Si領域と、前記絶縁物領域の他方の側に配置されたn型Si領域と、前記活性Si領域近傍に形成された窓領域とを有する。
請求項(抜粋):
量子化されたレベルを有する活性Si領域(5)と、前記活性Si領域(5)を囲む絶縁物領域(6、7)と、前記絶縁物領域(6、7)の一方の側に配置されたp型Si領域(2)と、前記絶縁物領域(6、7)の他方の側に配置されたn型Si領域(1)と、前記活性Si領域近傍に形成された窓領域(8)とを有する量子化Si光半導体装置。
IPC (3件):
H01L 31/10 ,  H01L 33/00 ,  H01S 3/18
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平3-066178

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