特許

J-GLOBAL ID：200903093230988416

ヒドロキシル化合物および溶媒の存在下でのニトロベンゼンの4-アミノジフェニルアミンへの接触水素添加

発明者： デベラ,アントニオ,エル.
出願人/特許権者： フレクシス アメリカ エル.ピー.
代理人 (1件)： 松井 光夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-501958
公開番号（公開出願番号）：特表2002-503246
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】本発明は、水素圧下、強有機塩基および水素添加触媒の存在下で反応ゾーンにニトロベンゼンを供給することにより4-アミノジフェニルアミンを製造する方法を提供する。該方法は、1工程プロセスの便利性および経済性を提供し、一方では改善された収率および選択性を生み出す。本発明はさらに、4-ADPAの製造、およびPPDを製造するための水素添加または還元的アルキル化に適する前記の種々の実施態様を提供する。本発明に重要なことは、アニリンとニトロベンゼンとのモル比、ニトロベンゼンとと強有機塩基とのモル比ならびに水素添加触媒の選択および使用である。

請求項（抜粋）：

水素圧下、強有機塩基および水素添加触媒の存在下で反応ゾーンにニトロベンゼンを供給することにより4-アミノジフェニルアミンを製造する方法。

IPC (3件)：

C07C209/36 ,  C07C211/54 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07C209/36 ,  C07C211/54 ,  C07B 61/00 300