特許

J-GLOBAL ID：200903093267882006

転写マスク、マスク保持装置、およびマスク保持構造

発明者： 松岡 晃次
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ
代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-189552
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015424
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】 本発明は半導体の製造プロセスでパターン転写の際に用いられる転写マスクに関し、転写マスク本体の中央部に撓みを生じさせることがなく、かつ、転写マスク本体の振動を十分に抑制することを目的とする。【解決手段】 ブロック状に区分された複数の転写領域13Aを有する転写マスク本体13の周囲を、保持リング15で保持する。転写マスク本体13の中央部近傍を、その下面側から、着脱可能な梁状の支え18で支持する。

請求項（抜粋）：

ブロック状に区分された複数の転写領域を有する転写マスク本体と、前記転写マスク本体の周囲を保持する保持リングと、前記転写マスク本体の中央部近傍にその下面側から接触する着脱可能な支えと、を備えることを特徴とする転写マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 1/16 B

Fターム (6件)：

2H095BA08 ,  2H095BB29 ,  2H095BC30 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05 ,  5F056FA07