特許

J-GLOBAL ID：200903093269314943

アナターゼ型酸化チタンの製造方法

発明者： 井村 達哉 ,  寺田 誠二
出願人/特許権者： 川崎重工業株式会社
代理人 (1件)： 塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-142008
公開番号（公開出願番号）：特開平11-335121
出願日： 1998年05月25日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】 250°C以下の低温で、しかも、少ない工程数で、光触媒活性が高く比表面積の大きいアナターゼ型酸化チタン粉末を製造する。貯蔵安定性・分散性の高いアナターゼ型酸化チタンスラリーを製造する。得られたスラリーが光触媒活性を持つコーティング材として、耐熱性の弱い材質にもコーティングできるものとする。【解決手段】 チタニアゾル溶液、チタニアゲル体又はチタニアゾル・ゲル混合体を、密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し、ついで、乾燥させて、アナターゼ型酸化チタン粉末を得る。また、チタニアゾル溶液、チタニアゲル体又はチタニアゾル・ゲル混合体を、密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し、ついで、分散・撹拌して、アナターゼ型酸化チタンスラリーを得る。

請求項（抜粋）：

チタニアゾル溶液、チタニアゲル体又はチタニアゾル・ゲル混合体を、密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し、ついで、乾燥させて、アナターゼ型酸化チタン粉末を得ることを特徴とするアナターゼ型酸化チタンの製造方法。

IPC (6件)：

C01G 23/053 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/20 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02

FI (6件)：

C01G 23/053 ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/20 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J