特許

J-GLOBAL ID：200903093269794627

全芳香族ポリアミド多孔膜及びその製造方法

発明者： 五十嵐 聡 ,  大道 高弘
出願人/特許権者： 帝人株式会社
代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-279558
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098106
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】 高耐熱性、高強度でかつ、物質透過性の高い均一な空孔形状を有する全芳香族ポリアミド多孔膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 全芳香族ポリアミドと、金属酸化物(特に好ましくは酸化亜鉛)の微粒子と、該全芳香族ポリアミドを溶解しかつ該金属酸化物微粒子は溶解しない溶媒とからなる金属酸化物微粒子分散溶液から製膜した金属酸化物微粒子分散膜を、該全芳香族ポリアミドを溶解せずかつ該金属酸化物微粒子を溶解しうる浴に浸漬し、該金属酸化物微粒子を溶解除去することにより、マクミラン数が1より大きく40以下であり、更に100°Cにおける引張弾性率が100kgf/mm2以上、多孔膜に残存する金属酸化物の量が、該金属酸化物を構成する金属元素の組成比で製膜時の1%以下である高性能の全芳香族ポリアミド多孔膜を得る。

請求項（抜粋）：

金属酸化物微粒子を分散した全芳香族ポリアミド溶液を製膜した金属酸化物微粒子分散膜から該微粒子を溶解除去して形成した全芳香族ポリアミド多孔膜であって、マクミラン数が1より大きく40以下で、100°Cにおける引張弾性率が100kgf/mm2以上であり、かつ多孔膜に残存する金属酸化物の量が、該金属酸化物を構成する金属元素の組成比で溶解除去処理前の1%以下であることを特徴とする全芳香族ポリアミド多孔膜。

IPC (6件)：

C08J 9/26 101 ,  C08J 9/26 CFG ,  B29C 67/20 ,  C08L 77/10 ,  B29K 77:00 ,  B29K105:04

FI (6件)：

C08J 9/26 101 ,  C08J 9/26 CFG ,  B29C 67/20 B ,  C08L 77/10 ,  B29K 77:00 ,  B29K105:04

Fターム (26件)：

4F074AA72 ,  4F074AC17 ,  4F074AC19 ,  4F074AC21 ,  4F074AE01 ,  4F074CB03 ,  4F074CB13 ,  4F074CB27 ,  4F074CC02X ,  4F074CC02Z ,  4F074CC27Y ,  4F074CC28X ,  4F074CC29X ,  4F074DA08 ,  4F074DA24 ,  4F074DA43 ,  4F074DA47 ,  4F074DA49 ,  4J002CL061 ,  4J002DE046 ,  4J002DE076 ,  4J002DE096 ,  4J002DE106 ,  4J002GD05 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA08