ネガ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-315287
公開番号（公開出願番号）：特開2003-121999
出願日： 2001年10月12日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：

【要約】【課題】活性光線又は放射線、特に電子線又はX線を使用するミクロファブリケーション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足する化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A1)特定の構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)アルカリ可溶性樹脂(C)酸により架橋する架橋剤を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A1)下記一般式(1)で表される構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)アルカリ可溶性樹脂(C)酸により架橋する架橋剤を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【化1】式中、Wは、-CH2-、-CYH-、-NH-を表す。Yは、置換又は無置換の、アリール基、直鎖、分岐鎖、あるいは環状アルキル基を表す。R1a〜R8aは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、チオール基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、1級アミノ基、直鎖、分岐鎖2級又は3級アミノ基、のアルキル基、又はアルコキシル基より選択された基である。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (11件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE07 , 2H025CB42 , 2H025CC17 , 2H025CC20

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