特許
J-GLOBAL ID：200903093276261391
酸素製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 泰甫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-169181
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002403
出願日： 1999年06月16日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、水を原料として用い、太陽エネルギ-を利用できる効率のよい酸素の製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 電子アクセプターとして作用する金属イオン(例えば、鉄(III) イオン、銀(II)イオン)を含む水溶液中に存在する半導体光触媒(例えば、半導体光触媒微粒子を用いて形成された薄膜)に励起光を照射して、該水溶液から酸素を発生させる手段を備えていることを特徴とする酸素製造装置である。この装置において、該水溶液中には電子アクセプターとして作用する金属イオンを酸化するための電極を設けるのが好ましく、また前記励起光を断続的に半導体光触媒薄膜に照射する手段を備えるのが好ましい。
請求項（抜粋）：
電子アクセプターとして作用する金属イオンを含む水溶液中で、半導体光触媒の存在下に該触媒に励起光を照射して、該水溶液から酸素を発生させる手段を備えていることを特徴とする酸素製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B 13/02 B
, C01B 3/04 A
