特許
J-GLOBAL ID：200903093288643095
パターン比較検査方法とその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-326795
公開番号（公開出願番号）：特開平6-174652
出願日： 1992年12月07日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 被検査パターン内でのパターン密度が一様でない場合でも、その被検査パターン内に存在する微細欠陥を高精度に検出すること。【構成】 被検査パターンからの画像信号はA/D変換器2を介し階調変換器17で階調変換された上、メモリ3からの画像信号と比較器18で明るさの相違に影響されることなくパターン比較されるが、その比較器18内ではまた、両画像信号は関数近似、近似曲線間の差の積分、積分値からの位置ずれの高精度検出にもとづき、両画像が高精度に位置合せされた状態でパターン比較が行われることで、微細欠陥が高精度に検出されているものである。
請求項（抜粋）：
検査対象より検出された該検査対象の画像上での明るさー頻度分布より、パターンの高密度領域と低密度領域との間での明るさ、あるいはコントラストが階調変換により定めた関係となるべく階調変換方法が具体的に定められた後は、検査対象が順次更新される度に、更新後の検査対象から検出される画像信号は上記階調変換方法により階調変換された上、既に一時記憶状態にある階調変換後の、更新前の検査対象対応の検出画像信号、あるいは既に一時記憶状態にある、更新前の検査対象対応の検出画像信号の階調変換されたものとの間で画像上での位置合せが行われた状態で、パターン比較が行われることによって、パターン欠陥有無の検出が行われるようにしたパターン比較検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, H01L 21/66
