特許
J-GLOBAL ID：200903093289673184
微細パターン検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-052728
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306958
出願日： 1997年03月07日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 処理の高速化、装置構成の簡易化、及び小型化を実現できる微細パターン検査装置を提供すること。【解決手段】 被検査試料500上における複数のパターン素からなる微細パターンの画像信号cを取得する画像取得手段を含み、前記画像信号を第1、第2の分割画像信号c1、c2に分ける。欠陥抽出ユニット40は、前記第1の分割画像信号を遅延させて遅延画像信号とした後に、明度を反転して遅延反転画像信号とし、該遅延反転画像信号を前記第2の分割画像信号と加算処理により合成してパターン素の画像信号を消去する処理を行う。この処理によっても消去されない画像信号をディスプレイ52により表示して欠陥像及び反転欠陥像を検出する。
請求項（抜粋）：
被検査試料上に繰り返して形成されている同形状の微細なパターン素から成る微細パターンの画像信号からパターン素の欠陥の有無を検査する微細パターン検査装置において、前記被検査試料上の微細パターンの画像信号を取得する画像取得手段を含み、前記微細パターンの画像信号を第1、第2の分割画像信号に分け、前記第1の分割画像信号を遅延させて遅延画像信号とした後に、明度を反転して遅延反転画像信号とし、該遅延反転画像信号を前記第2の分割画像信号と合成してパターン素の画像信号を消去する処理を行う欠陥抽出ユニットを更に備え、この処理によっても消去されない画像信号を画像表示部により表示して欠陥像及び反転欠陥像を検出することを特徴とする微細パターン検査装置。
IPC (4件)：
H01L 21/66
, G01B 11/24
, G01B 11/30
, G06T 7/00
H01L 21/66 J
, G01B 11/24 F
, G01B 11/30 Z
, G06F 15/62 405 A
