特許
J-GLOBAL ID：200903093295367435
半導体光触媒を用いた水素及び酸素の製造方法、及び水素、酸素及び一酸化炭素の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院化学技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306118
公開番号（公開出願番号）：特開平6-126189
出願日： 1992年10月19日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：
【要約】【目的】 半導体光触媒と光エネルギ-を用いて(1)水から効率的に水素と酸素を製造する方法および(2)水を用いて炭酸塩として固定された二酸化炭素を還元し、水素、酸素及び一酸化炭素を製造する方法を提供する。【構成】 半導体光触媒として酸化タンタル及び酸化ジルコニウムからなる群から選ばれた1つを、水または二酸化炭素を溶解した水溶液に懸濁し、光を照射することによって触媒的に水素と酸素、または水素と酸素及び一酸化炭素を製造する方法。
請求項（抜粋）：
酸化タンタル及び酸化ジルコニウムからなる群から選ばれた半導体の存在下に水に光照射し、これを光分解することを特徴とする水素及び酸素の製造方法。
IPC (11件)：
B01J 35/02
, B01J 21/06
, B01J 23/20
, B01J 23/50
, B01J 23/64 102
, B01J 23/72
, B01J 23/74 321
, B01J 23/84 301
, C01B 3/04
, C01B 13/02
, C01B 31/18
