特許

J-GLOBAL ID：200903093295505544

撹拌装置

発明者： 山本 一己 ,  石川 諭 ,  阿部 克身 ,  城野 三千男
出願人/特許権者： 綜研化学株式会社
代理人 (1件)： 清水 敬一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-233068
公開番号（公開出願番号）：特開平9-075699
出願日： 1995年09月11日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【目的】 低粘度から高粘度までの広い粘度域の流体を均一にかつ効率良く撹拌混合できる撹拌装置を提供する。【構成】 この発明による撹拌装置は、撹拌槽1と、撹拌槽1内に回転可能に支持された回転軸2と、撹拌槽1内で回転可能に回転軸2に固定された撹拌翼10とを備え、撹拌翼10は回転軸2に対して傾斜して径方向かつ上方に延びる第1の上部翼7と、第1の上部翼7の下方に配置されかつ回転軸2に対して傾斜して径方向かつ下方に延びる第2の上部翼8と、第2の上部翼8に接近して配置されかつ撹拌槽1の底面付近まで回転軸2から下方かつ径方向に延びる下部翼9とを有し、第1及び第2の上部翼7、8は下部翼9と略同一の半径で延出する部分を有しかつ回転軸方向に所定の間隔Cで接近して配置され、第1の上部翼7の下辺部7a及び第2の上部翼8の上辺部8aは互いに軸方向に重複する部分を有する。

請求項（抜粋）：

撹拌槽と、撹拌槽内に回転可能に支持された回転軸と、撹拌槽内で回転可能に回転軸に固定された撹拌翼とを備えた撹拌装置において、撹拌翼は、回転軸に対して傾斜して径方向かつ上方に延びる第1の上部翼と、第1の上部翼の下方に配置されかつ回転軸に対して傾斜して径方向かつ下方に延びる第2の上部翼と、第2の上部翼に接近して配置されかつ撹拌槽の底面付近まで回転軸から下方かつ径方向に延びる下部翼とを有し、第1の上部翼及び第2の上部翼は下部翼と略同一の半径で延出する部分を有しかつ回転軸方向に所定の間隔で接近して配置され、第1の上部翼の下辺部及び第2の上部翼の上辺部は互いに軸方向に重複する部分を有することを特徴とする撹拌装置。

IPC (2件)：

B01F 7/16 ,  B01F 3/10

FI (2件)：

B01F 7/16 F ,  B01F 3/10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭49-004253
  
• 撹拌翼
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-298551   出願人：佐竹化学機械工業株式会社
• 特開平4-090839