特許

J-GLOBAL ID：200903093321528515

熱的に除去可能なコーティングを備えた光ファイバを使用する光ファイバ装置の製造方法

発明者： クロンク,ブライオン・ジェイ ,  ノバック,ジェイムズ・シー ,  ラバイン,ブルース・エイ ,  サンダーズ,ポール・イー
出願人/特許権者： ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-537078
公開番号（公開出願番号）：特表2000-508785
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】光ファイバ装置を製造する方法であって、少なくとも1つの熱的に除去可能なコーティングを上に有する光ファイバを含む光ファイバ要素を形成するステップと、前記熱的に除去可能なコーティングの全体または予め決められた部分を熱的に除去し、後続の処理ステップのために前記光ファイバを十分に露出させるステップとを含む前記方法。熱的に除去可能なコーティングを除去した後、前記光ファイバは、FOTP-28に従って測定して予め決められた中央値破断応力を有する。次に、前記光ファイバは光ファイバ装置に加工して、任意に再塗布することができる。

請求項（抜粋）：

1.光ファイバ装置を製造する方法であって、 (a)熱的に除去可能な1つまたは複数のコーティングを上に有する光ファイバを含む光ファイバ要素を形成するステップと、 (b)前記熱的に除去可能なコーティングの予め決められた部分を実質的に熱的に除去し、後続の処理ステップのために前記光ファイバを十分に露出させるステップであって、前記光ファイバが、コーティング除去後にFOTP-28に従って測定した場合、予め決められた破断応力を有する前記ステップと、 (c)前記光ファイバを処理して光ファイバ装置を形成するステップと、を含む方法。 2.ステップ(c)の後、前記光ファイバの前記部分に少なくとも1つの保護コーティングを再塗布するステップをさらに含む、請求項1記載の光ファイバ装置製造方法。 3.ステップ(b)の前記熱的除去が、前記除去可能なコーティングを加熱ガス流に暴露することを含む、請求項1記載の光ファイバ装置製造方法。 4.前記光ファイバが、前記コーティングを熱的に除去した後にFOTP-28に従って測定した場合、予め決められたワイブル弾性率を有する、請求項1記載の光ファイバ装置製造方法。 5.光ファイバブラッグ回折格子を製造する方法であって、 (a)除去可能なポリマーコーティングを上に有するガラス光ファイバを含む光ファイバ要素を形成するステップであって、前記ガラス光ファイバは、FOTP-28に従って測定した場合、予め決められた初期中央値破断応力を有する光ファイバを形成するステップと、 (b)前記除去可能なコーティングを加熱ガス流に暴露して、前記除去可能なコーティングの予め決められた部分を熱的に解重合し、後続の処理のために前記ガラス光ファイバの一部を露出させるステップであって、前記除去可能なコーティングを解重合した後、 前記光ファイバの前記露出部分の前記除去可能なコーティングの残滓が、除去前の前記部分の全重量に基づいて約10重量%未満であり、 前記光ファイバの前記中央値破断応力は、FOTP-28に従って測定した場合、前記初期破断強度の少なくとも50%である前記ステップと、 (c)前記光ファイバの前記露出領域をレーザで処理して、前記露出ガラス部分にブラッグ回折格子を形成するステップと、を含む光ファイバブラッグ回折格子を製造する方法。 6.前記露出領域が、ステップ(c)の後に保護コーティングを再塗布される、請求項5記載の光ファイバブラッグ回折格子製造方法。 7.前記ガス流が窒素を含む、請求項5記載の光ファイバブラッグ回折格子製造方法。 8.前記ガス流の温度が約400°C〜約900°Cである、請求項5記載の光ファイバブラッグ回折格子製造方法。 9.前記光ファイバが、FOTP-28に従って測定した場合、初期ワイブル弾性率を有し、コーティングを熱的に除去した後の前記ワイブル弾性率が、前記初期ワイブル弾性率の約50%以上である、請求項5記載の光ファイバブラッグ回折格子製造方法。

IPC (3件)：

G02B 6/10 ,  G02B 6/00 336 ,  G02B 6/44 301

FI (3件)：

G02B 6/10 C ,  G02B 6/00 336 ,  G02B 6/44 301 Z